一、电解蚀刻 (electrolytic etching)
用母模作导电性阴极，以电解液作媒介，对加工部分，集中实施蚀刻的侵蚀去除法。
二、化学蚀刻(chemical etching)
利用耐药品被膜，把蚀刻侵蚀去除，作用集中于所要部位的方法。照相蚀刻技术(photo-etching process) 在金属表面全面均匀形成层状的感旋光性耐药品被膜(photo resist) ，而透过原图底片，用紫外线等曝光，后施以显像处理，来形成所要形状的耐药品被膜之ax被覆层，再以蚀刻浴的酸液或碱液，对露出部产生化学或电化学侵蚀作用，来溶解金属的加工技术。
三、蚀刻技术之特性
1、不需要电极、母型 (master) 等工具，故无需此等工具之维护费。
2、由规划到生产间所需时间短，可作短期加工。
3、材料之物理、机械性质不受加工影响。
4、加工不受形状、面积、重量之限制。
5、加工不受硬度、脆性之限制。
6、能对所有金属 ( 铁、不锈钢、铝合金、铜合金、镍合金、钛、合金 )实施加工。
7、可高精度加工。
8、可施复杂、不规则、不连续之设计加工。
9、 面积大，加工效率良好，但小面积时，其效率比机机械加工差。
10、 水平向之切削易得高精度，但深度、垂直方向不易得到同机机械加工之 精度。
11、被加工物之组成组织宜均匀，对不均质材，不易加工顺利。